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한남대학교 화학과 반도체 나노입자제어분석연구실(김운중 교수)이 국가반도체연구실 사업 선정에 따른 현판을 수여받았다.
  5일 한남대에 따르면 지난 1일 과학기술정보통신부는 세종코트야드 메리어트에서 간담회를 열고 국가반도체연구실의 현판을 전달하는 한편 현장의 의견을 청취하는 시간을 가졌다.
  이날 한남대 김운중 교수 연구실을 비롯한 KAIST, 성균관대, 고려대, 연세대, 울산과기원, 울산대, 경상국립대, 군산대 등 국가반도체연구실 사업에 선정된 9개대학 10개 연구실 책임자 및 관계자가 참석했다.
  이 사업은 반도체 분야의 삼극특허(미·일·유럽에 모두 등록된 특허) 확보와 전문 인력 양성을 위해 대학 반도체 연구실의 중장기 연구개발을 지원하는 대규모 국책사업으로 연구실마다 오는 2027년까지 25억원의 연구비를 지원받게 된다.
  일반적으로 반도체 웨이퍼 표면을 연마할 때 사용하는 연마제(슬러리)는 높은 열에 약하고 접착력이 강해 세적시 유독용제를 사용해야 하는 세척 과정을 거친다. 이 과정에서 슬러리 입자의 분산 안정성이 떨어지면 스크래치 등 결함이 발생할 수 있다. 김 교수는 이를 보완해 국내 최초로 스크래치가 없는 친환경 반도체 평탄화 공정(CMP)을 위한 슬러리 개발과 상용화에 성공한 연구성과를 보유하고 있다.
한남대는 이번 연구비 지원을 통해 기존 CMP 연구에서 나아가 차세대 CMP 슬러리 제품을 개발하고 미국과 일본 글로벌 경쟁사와 동등 수준 이상의 기술력을 확보할 계획이다.